В Нижнем Новгороде запатентовали способ очистки нанопорошка диоксида кремния для полировки микросхем

22 октября 2026
Импортозамещение Технологии

Специалисты научно-исследовательской лаборатории инженерной химии НИИ химии Университета Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния (SiO₂) для микроэлектроники, а также научились управлять свойствами этих наночастиц. Разработка позволяет получить частицы заданного размера и формы — с высокой однородностью, стабильностью и низким содержанием примесей. Именно эти характеристики решают, можно ли использовать порошок в производстве микросхем.

«Наше изобретение относится к области очистки аморфного диоксида кремния, синтезированного методом Штобера, и предназначено для использования в химико-механической полировке (ХМП) полупроводниковых пластин, а также в процессах, требующих высокочистых абразивных наноматериалов», — пояснила руководитель исследования, кандидат химических наук, научный сотрудник научно-исследовательской лаборатории инженерной химии НИИ химии ННГУ Ксения Отвагина.

Это — часть проекта по разработке полировальных суспензий для микроэлектроники. Ученые создали технологическую линию и регламент получения продукта, что позволило получить устойчивую суспензию и направить ее на апробацию индустриальному партнеру.

Такие суспензии обеспечивают прецизионную обработку поверхности с точностью до субнанометров и играют главную роль в процессах ХМП. Сейчас, в условиях ограничений поставок, существует критическая потребность в российских продуктах, которые по характеристикам сопоставимы с зарубежными аналогами.

«От размера, формы и однородности наночастиц напрямую зависит качество обработки пластин, а значит надежность и производительность будущих электронных устройств. Именно поэтому разработка отечественных материалов с контролируемыми характеристиками является важным шагом для развития российской микроэлектроники и снижения зависимости от зарубежных поставщиков», — считает руководитель проекта.

По мнению ректора университета Олега Трофимова, создание отечественной компонентной базы для микроэлектроники — одна из ключевых задач, стоящих перед страной.

«Запатентованная технология — это яркий пример того, как университетская наука отвечает на вызовы времени и запросы индустрии. Наша цель — обеспечить полный цикл от фундаментальных исследований до серийного внедрения. Успешное масштабирование процесса и переход к испытаниям с индустриальным партнером подтверждают, что мы движемся в правильном направлении», — пояснил ректор.

Сейчас проект находится на этапе опытно-технологической отработки. Исследовательская часть — подбор состава и условий синтеза — уже в значительной степени завершена. Теперь в вузе проверяют, чтобы технология стабильно работала при масштабировании, и испытывают материалы вместе с индустриальным партнером.

Проект реализуется в рамках программы Минобрнауки России «Приоритет-2030» (национальный проект «Молодежь и дети»).